PLD-工作站

特征

• 一體式框架解決方案，支持快速“即插即用”安裝
• 先進的工藝自動化，也非常適合超晶格沉積
• 具有先進溫度測量功能的抗氧基板加熱器，1000°C
• 可選基板激光加熱
• 具有交叉污染屏蔽的靈活先進目標機械手
• 為系統升級準備的真空室（RHEED、等離子體源、OES/FTIR等）
• 表面通量控制選項，可獲得100%可重現的結果
• 完全封閉的光束線，可實現無障礙、安全的操作
• 交鑰匙交付
• 通過互聯網提供高級在線支持

終極氧化物原型系統

脈沖激光沉積（PLD）是薄膜沉積的通用工藝，其主要優點是化學計量的材料從靶轉移到基底。地面PLD工作站是這出色的薄膜原型制作和研究系統，可輕松獲取新材料，尤其是先進的氧化層。

PLD工作站將PLD系統的所有組件（包括激光器和激光氣體供應）集成到一個機架中。緊湊的設計能夠最靈活地使用系統，并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是無與倫比的多功能性的關鍵，即使對于以前沒有PLD技術經驗的用戶也可以使用PLD！

PLD工作站以強大而緊湊的封裝提供先進的沉積技術，適用于各種應用。盡管具有內置的靈活性，但安全始終是重中之重:

• 帶有外部驅動反射鏡調節功能的全封閉激光束線可安全地防止暴露在紫外線激光輻射下
• 激光器和激光氣體柜永久連接到外部排氣管線

真空室:具有內置的靈活性

真空室是為研究而設計的。它具有適用于最常見的原位分析工具或其他系統擴展的備用法蘭:

此外，兩名窗子允許從兩個不同的角度和兩個側面對過程進行視覺接觸。大前門使主要工藝部件:靶和襯底機械手完全可以進入。標準配置提供一個2英寸襯底加熱器和一個4×2英寸索引目標操縱器。加熱器對于1英寸基材和激光加熱器都是可選的。

為了調節工藝條件，標準配置有兩個質量流量控制器通道，用于將工藝氣體供應到反應室中。它們能夠自動控制工藝氣氛和壓力。

通過的設計目標操縱器結合控制軟件，可避免在目標表面形成錐形，并保證目標的均勻磨損。激光束將以兩種不同的入射角擊中目標的每個點，因此不會形成影響燒蝕材料化學計量的錐體。

為了實現均勻的靶磨損，沉積過程中有兩種不同的靶移動模式:

• 切換:

  目標轉盤以連續運動的方式來回移動，以便激光束在距離目標中心的任何半徑處擊中目標。該模式易于設置，只需知道目標直徑。

• 掃描:

  移動目標轉盤，使激光束在目標上“寫入”定義的軌跡。調整目標旋轉速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復率。這實現了目標表面的非常均勻的磨損。

表面流量控制

可選地，PLD工作站可以配備表面通量控制。這一特性極大地增強了薄膜沉積的可再現性:在每個沉積步驟之前，自動校準激光流量并調整脈沖能量，以隨著時間的推移保持恒定的沉積條件。為了校準目標轉盤被移動到使激光束能夠通過與激光入射窗相對的窗口射出腔室的位置。自動安全快門打開，功率計可以測量脈沖能量。這種設計確保了在測量過程中光束路徑中唯一的附加光學部件是出射窗。通常這種窗戶由安全百葉窗保護，可以長時間保持清潔。這樣，可以可靠地確定到達目標的真實脈沖能量。

控制軟件

所有表面PLD系統都是高度自動化的，以控制整個沉積過程。這確保了系統的簡單操作。這PlumeMaster軟件基于久經考驗的Windows XP專業版操作系統。具有單獨設置的幾個工藝步驟可以組合成一個沉積程序。直觀的過程可視化、具有數據導出功能的高度靈活的數據記錄和自測功能是額外的功能。

所提供的軟件還包括沖浪用品–SURFACE的高級客戶支持工具:

• 快速聯系表面支持小組
• 地面支持工程師通過互聯網（TCP/IP）和集成網絡攝像頭提供視聽支持
• 支持工程師可以遠程控制系統，同時保持視聽聯系
• 硬件問題以及客戶工藝編程問題的簡單故障排除
• 通過互聯網的自動軟件更新程序

PLD-Lab:多室，一個激光器

如果需要更大的吞吐量，可以將幾個PLD工作站組合成一個共享一臺激光器的系統。然后，帶有自動反射鏡的擴展光束線將激光束引導至所需的PLD工作站腔室。激光服務器計算機基于請求表自動控制激光器和光束線，并且PLD室中的沉積工藝被延遲，直到激光器可用于特定室。

系統規范

產品照片