單腔體脈沖激光沉積系統-PLD

PLD工藝生長腔

 ? 選用圓球形或圓柱形腔體，極限真空度優于 5 x 10^-8 mbar

 ? 腔體法蘭口包括：主抽氣口、樣品臺、靶臺、工藝進氣口、全量程真空計、工藝真空計、RHEED 電子槍、熒光屏、觀察窗等，也可以預留其他法蘭口，比如紅外測溫、等離子體源、磁控濺射源等

? 腔體支持真空烘烤，最高烘烤溫度可達200 度

? 快開門維護法蘭

? 多角度觀察窗，兼顧腔內各核心部件觀測

PLD樣品臺

樣品臺采用多種加熱方式，包括電阻式加熱，輻射式加熱，紅外激光加熱；

電阻式加熱樣品臺

? 樣品區域： 最大2英寸/15 x 18 mm方形區域（適用于旗型樣品托）；

? 最高加熱溫度：1000°C；

? 加熱器可整體插拔傳送；

? XYZ三維位置可調；

? K-type熱電偶測溫；

輻射式加熱樣品臺

? 樣品區域： 最大2英寸；

? 最高加熱溫度：1000°C(鉑銠合金加熱絲，抗氧壓)；

? 樣品實際溫度可達800°C，襯底無需銀膠固定；

紅外激光加熱樣品臺

? 樣品區域： 最大1英寸；

? 激光器：980 nm固體紅外激光器，光纖導入；

? 最高加熱溫度：1400°C；

? SiC夾層K-type熱電偶或者光學紅外測溫；

? XYZ三維位置可調；

PLD靶臺

? 靶位：4/5/6 x 最大1英寸；

? 程控公自轉設計；

? 靶位自動選取；

? 靶臺整體取放或單獨靶托取放；

? XYZ多軸運動可選；

PLD工藝氣路

? 全金屬密封質量流量計；

? 分子泵旁抽/閘板閥限制抽速，流量計PID控壓，或碟閥控壓；

? Ar/N₂/O₂多種氣體混合方式可選；

? 支持靜態/動態退火工藝

激光光路

? 根據脈沖激光沉積系統和實驗室場地的實際尺寸具體設計；

? 利用幾何光學成像原理在光路上放置有光闌、反射鏡和透鏡；

? 光路被完整限制在亞克力有機玻璃包裹的鋁型材框架內；

? 入射高度/焦距/角度根據系統和實驗室空間設計；

? 激光器可融入光路內，節省空間；

? 出射光斑和強度優化；

光路拓展

? 合理配置光路系統可有效提高激光器效率；

? 具體分光光路可根據實驗室實際空間尺寸確認；

? 我們可提供成套解決方案；

? 設備尺寸小，操作簡單，可以和國內外其他品牌的脈沖激光沉積系統配合，如荷蘭TSST、美國Neocera、日本Pascal、德國Surface，俄羅斯Bluewave，美國NBM、以及各國產廠家生產的相關脈沖激光沉積系統。