離子濺射儀是掃描電子顯微鏡（SEM）最基本的樣品制備儀器，在一些情況下，通過使用離子濺射儀可以幫助掃描電鏡（SEM）獲得更好的圖像及特征點。

我們都知道掃描電鏡（SEM）基本上是可以對所以類型的試樣進(jìn)行圖像處理，諸如粉末，半導(dǎo)體，高分子材料，陶瓷，金屬，地質(zhì)材料，生物樣品等。然而有些特殊的樣品想要通過掃描電鏡（SEM）收集高質(zhì)量的照片，是需要操作者使用額外的樣品制備方法，這個額外的樣品制備方法，通常是在試樣的表面濺射一層導(dǎo)電薄膜材料，通常在5-20nm左右。

離子濺射儀濺射哪些材料？

通常濺射的材料是金屬材料，因為導(dǎo)電性高，濺射顆粒小，例如GVC-2000磁控離子濺射儀，在濺射黃金靶材的時候，我們可以達(dá)到5-10nm的金屬顆粒，如果選用鉑金顆粒的直徑會更小達(dá)到5nm以內(nèi)，此款儀器主要配備各大電鏡廠家生產(chǎn)的場方式電鏡，正是因為濺射的顆粒小，在高分辨下，圖像是沒有顆粒感，可以得到較高的質(zhì)量的電鏡圖像。

此外，如果需要EDS能譜分析時，掃描電鏡（SEM）使用者，可以通過EDS分析軟件屏蔽靶材的元素選項，從而不會影響X射線與其他的元素的峰值發(fā)生沖突。

磁控離子濺射儀，可以支持多種靶材的選項，例如，鉻，銀，銅，銥等，如銅，鋁等是需要接入氬氣的，儀器預(yù)留好了氬氣接口，可以支持鏈接氬氣瓶使用，從而得到更小的金屬顆粒，獲取更高分辨率的圖像。

1.非導(dǎo)電材料

非導(dǎo)電材料，由于它們的材料本身的非導(dǎo)電性，其表面帶有電子陷阱，這種表面的電荷的聚集，容易造成樣品表面的放電現(xiàn)象，是嚴(yán)重影響到樣品的圖像質(zhì)量。為了消除放電現(xiàn)象，我們通常的解決問題的方法是降低掃描電鏡樣品室的真空度，這樣可以將樣品表面的引入正電荷的分子，它可以與放電電子相互中和，從而消除放電現(xiàn)象，但是此種方法并不是獲取高分辨率的圖像的有限辦法。

獲取高分辨率高質(zhì)量的掃描電鏡（SEM）圖像，建議操作人員使用離子濺射儀，在樣品表面濺射一層金屬薄膜，將放電電子從樣品表面轉(zhuǎn)移走。

2.電子束敏感樣品

對于掃描電鏡（SEM）需要噴金的另外一類樣品是電子束敏感樣品。這類樣品通常是生物樣品和高分子樣品，尤其是鋰電池隔膜等。掃描電鏡（SEM）的電子束具有較高的能力，在電子轟擊樣品的過程中，他會在樣品的表面形成能力的聚集，會對樣品的表面形成灼傷，從而損壞樣品表面的微觀相貌，這種情況下，我們會在電子束敏感樣品的表面濺射一層金屬薄膜從而起到保護(hù)作用，防止樣品的損失。 

為了準(zhǔn)確高分辨率高質(zhì)量的掃描電鏡（SEM）圖像，建議操作人員選擇使用離子濺射儀，在樣品表面濺射一層導(dǎo)電通路。離子濺射儀的樣品制備技術(shù)可以有效的提高掃描電鏡（SEM）圖像的質(zhì)量和分辨率，在掃描電子顯微鏡的成像過程中，濺射材料可以有效的提高信噪比，從而獲取更高質(zhì)量的成像。

3.離子濺射儀的缺點

由于操作簡單，在使用離子濺射儀的過程中，操作人員大可不必有太多的顧慮，在操作人員需要不斷調(diào)整離子濺射儀的參數(shù)，尋找合適的濺射效果，另外離子濺射有一個缺點是，濺射后的樣品，不再是原始的材料，元素的襯度信息會有所丟失。但在大多數(shù)的情況下，通過多次模式參數(shù)，我們既能夠得到高分辨高質(zhì)量的圖像，又不會丟失樣品的原始信息。