離子束刻蝕也稱為離子銑，是指當定向高能離子向固體靶撞擊時,能量從入射離子轉(zhuǎn)移到固體表面原子上，如果固體表面原子間結(jié)合能低于入射離子能量時，固體表面原子就會被移開或從表面上被除掉。通常離子束刻蝕所用的離子來自惰性氣體。
離子束刻蝕機是一種用于工程與技術(shù)科學基礎(chǔ)學科、測繪科學技術(shù)、航空、航天科學技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。用于工程與技術(shù)科學基礎(chǔ)學科、測繪科學技術(shù)、航空、航天科學技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。
離子束最小直徑約10nm，離子束刻蝕的結(jié)構(gòu)最小可能不會小于10nm。聚焦離子束刻蝕的束斑可達100nm以下，最少的達到10nm，獲得最小線寬12nm的加工結(jié)果。相比電子與固體相互作用，離子在固體中的散射效應(yīng)較小，并能以較快的直寫速度進行小于50nm的刻蝕，故而聚焦離子束刻蝕是納米加工的一種理想方法。此外聚焦離子束技術(shù)的另一優(yōu)點是在計算機控制下的無掩膜注入，甚至無顯影刻蝕，直接制造各種納米器件結(jié)構(gòu)。
SHL 系列離子束刻蝕機配置項目如下：
配置項目
| SHL FA100-IBE
| SHL 100S-IBE
| |
樣片尺寸
| 4英寸向下
| ||
RF離子源
| 離子能量100~1000V，離子通量100~800mA，束流準直性＜±5%，束流不均勻 性＜±5%，100h工藝穩(wěn)定時間
| ||
分子泵
| 1000/2000/3000（L/s），可配防腐型泵
| ||
前級泵
| 機械泵/干泵，可配防腐型泵
| ||
預(yù)抽泵
| 機械泵/干泵，可配防腐型泵
| ||
預(yù)抽腔
| 可選配
| ||
工藝控壓
| 不控壓/0~0.1Torr控壓
| ||
氣體種類
| H2,CH4,O2,N2,Ar,SF6,CF4,CHF3,C4F8,NF3,NH3,C2F6,Cl2,BCl3,HBr/定制(最多12路)
| ||
氣體量程
| 0~5sccm/50sccm/100sccm/定制
| ||
傳輸腔
| 可選配
| ||
樣片控溫
| -30℃/10℃~室溫
| ||
背氦冷卻
| 可選配
| ||
工藝腔內(nèi)襯
| 可選配
| ||
樣品臺 | 旋轉(zhuǎn)0 ~ 30 rpm，支持往復(fù)運動，0 ~ 180°傾斜，控制精度±0.1°，自動控制
| ||
控制系統(tǒng)
| 全自動/定制
| ||
工作模式
| 可選 反應(yīng)離子束刻蝕模式（RIBE）與化學輔助離子束刻蝕模式（CAIBE)
| ||
刻蝕材料
| 硅基材料：SiNx，SiO2 金屬材料：Ta、Ti、Cu、Al | 磁性材料/合金材料 金屬材料：Ni、Cr、Cu、Al、Au....... 光柵結(jié)構(gòu)
| |
微信二維碼
微信號：13810961731科研設(shè)備丨半導體材料丨高精度檢測丨清潔度檢測丨激光刻蝕丨光柵刻蝕丨離子刻蝕丨等離子清洗丨半導體檢驗丨蔡司電鏡丨材料科研丨二維刻蝕丨傾角刻蝕丨3維超景深丨掃描電鏡丨失效分析丨共聚焦顯微鏡 XML地圖