等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。

感應(yīng)耦合等離子刻蝕機利用射頻天線在放電腔內(nèi)通過感應(yīng)耦合產(chǎn)生高密度等離子體。同時，將射頻偏置壓力引入蝕刻工作臺。在射頻偏置壓力的作用下，等離子體垂直向下物理轟擊未覆蓋的蝕刻材料表面，與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，實現(xiàn)化學(xué)與物理蝕刻樣品的結(jié)合。

設(shè)備結(jié)構(gòu)：

感應(yīng)耦合等離子刻蝕機主要由高真空蝕刻室組成。真空采集系統(tǒng)。真空測量系統(tǒng)。恒壓系統(tǒng)。電源系統(tǒng)。感應(yīng)耦合電極和均勻氣體系統(tǒng)。射頻偏壓電極。水冷電梯。氣體回路系統(tǒng)。電氣和自動控制系統(tǒng)。安全和自動報警系統(tǒng)。

用途和特點：

設(shè)備適用于大學(xué)研究機構(gòu)和企業(yè)研發(fā)機構(gòu)通用感應(yīng)耦合等離子體蝕刻的科學(xué)研究和教學(xué)。

感應(yīng)耦合等離子刻蝕機具有廣泛的蝕刻材料，包括但不限于單晶硅。非晶硅。

采用氣體離化率高、等離子體密度高的新型柱狀耦合電極結(jié)構(gòu)。

適用于不同的在線自動調(diào)整和不同的工藝特點。

采用自動壓力控制系統(tǒng)，蝕刻過程更加穩(wěn)定。